一、產(chan) 品功能和用途：

       型號：WS-RZK-800

　真空熱處理淬煉爐係統屬於(yu) 高壓氣猝爐，是一種電阻加熱氣冷爐，采用真空輻射方式加熱，氣體(ti) 快速冷卻，氣體(ti) 冷卻壓力可調且*壓力大於(yu) 6bar(絕壓)的熱處理設備，該設備可用於(yu) 淬火、退火、回火、固溶、時效等真空熱處理工藝。真空熱處理快率爐由真空室、抽真空真係統、壓力測量裝置、加熱風、保溫隔熱屏、高壓氣淬係統、水冷係統、控製係統、電氣係統及試驗台架組成

　1、 為(wei) 熱處理作業(ye) 提供高真空環境，滿足高真空熱處理的真空度需求，真空腔室為(wei) 不鏽鋼爐膛，配備幹泵、分子泵組成的真空泵組，禁止使用油泵。

　2、為(wei) 熱處理作業(ye) 提供高溫烘烤環境，滿足高真熱處理的溫度需求，配備多層金屬熱屏蔽，帶狀加熱絲(si) 。

　3、 設備可通過程序自動升溫，可控製升溫速率、可設置分段加熱，並具備通過真空度檢測反饋控製加熱升溫的功能。

　4、配備冷卻水機，對真空法蘭(lan) 、爐膛外壁進行冷卻。

　5、配備可拆換樣品托盤，材質為(wei) 鉬或陶瓷。

　6、具備小型化特點，占地麵積小，搬運靈活。

　7、配備充氣口可充入保護氣體(ti)

　8、幹泵配備減震裝置，降低運行的振動

      二：真空熱處理淬煉爐係統主要技術參數

　真空

　1、工作真空度：5.0×10-2Pa(熱態)，冷態極限真出≤1.0×10-2Pa.在冷態、空載狀態下係統從(cong) 大氣開始抽氣，30分鍾可達到2 Pa.60分鍾可達到 5.0×10-1Pa， 壓升率不大於(yu) 1Pa/h

　2、*工作溫度： 1200℃，保量過程中溫度波動小於(yu) ±2℃。

　3、 室溫極限真空度：2.0×10-4Pa(室溫)

　4、抽速：從(cong) 大氣30分達到0.1Pa，60分達到5.0×10-4Pa。

　5、容量：可以容納不小於(yu) 50Kg樣品重量。

　6、壓力測量範圍：1.0×10-5Pa至3.0×105Pa。

　2.2.2：加熱

　1、*加熱溫度：1200℃

　2、 *升溫速率： 15℃/min

　3、 *升溫速率： 0.1℃/min

　4、*升溫程序段數量： 20

　5、控溫精度：±2℃

　6、溫度過衝(chong) ：<10℃

　7、外壁溫度<50℃(開水機時)

　8、空爐、密閉狀態下，從(cong) 1100℃冷卻至 200℃用時不超過5 min:

　9、具備冷卻水溫、水壓報警功能

　其它要求

　1、 外型尺寸：整體(ti) 設備小於(yu) 2.5*1.5*1.8米，設備可設計成可拆分結構以滿足此要求

　2、有效實用尺寸：300mm×300mm×400mm

　3、放氣閥：1×KF16

　4、噪聲：滿足工業(ye) 場所噪聲標準

　結構與(yu) 安裝要求

　真空熱處理設備獨立放置，應有清晰的標識，便於(yu) 指導人工連接。

　接口要求

　采用標準真空密封法蘭(lan) 。

　產(chan) 品塗覆、標識要求

　應在該設備外醒目位置上安裝銘牌，銘牌中有產(chan) 品名稱、型號、出廠編號、出廠日期和承製單位等內(nei) 容。

　本台真空熱處理設備主要分為(wei) 真空係統、加熱係統、電控及冷卻係統四部分組。

　本設備為(wei) 高真空鉬膽加熱距式前開門設備，真空容器主要由優(you) 質S30408不鏽鋼製造，為(wei) 了防止高溫對人體(ti) 燙傷(shang) 所以容器做成了兩(liang) 層，中間一層用來通水冷卻。所有抽氣設備裝在儀(yi) 器內(nei) ，真空及加熱係統在控製櫃上麵的平板電腦上操作，本係統將真空加熱合為(wei) 一體(ti) ，提高了係統的集成性與(yu) 穩定性，操作使用簡單方便，同時係統還具有一定的擴展性和冗餘(yu) 性便於(yu) 後續功能擴展的是真空度和溫度設備控製的核心。

　將被試驗件放入真空腔內(nei) ，再將真空腔爐門關(guan) 上(加熱為(wei) 內(nei) 鉬膽加熱式)，就可開始工作。將真空抽至工藝規定的指標後，可加熱，並開啟高真空內(nei) 的加熱係統，可使器件內(nei) 管壁氣體(ti) 分子及高真空管道內(nei) 壁上氣體(ti) 分子脫附，並通過真空係統將其抽走。經過一定時間後，使器件內(nei) 真空度達到工藝所需的真空度要求，就可進行陰極分解或器件的熱處理工藝，完成真空工藝流程。

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